Информация о книге

9783847344179

Главная  » Научно-техническая литература » Прикладные науки. Техника » Техника » Другие общетехнические дисциплины » Etching performance of silicon wafers with redesigned etching drum

Musa R., Etching performance of silicon wafers with redesigned etching drum

LAP Lambert Academic Publishing, 2012 г., 132 стр., 9783847344179


Описание книги

Etching process involves various chemical reactions and reflects significantly on silicon wafer quality. Design of Experiments (DOE) with full factorial design is employed for optimization purpose. Etching factors namely the bubbling flow rate, wafer rotation, and etchant temperature had been randomized with additional three center points to observe any curvature. The responses studied are etching removal, total thickness variation (TTV) and wafer brightness. Additionally, the etchant temperature and bubbling flow rate provide interaction effect on both etching removal and wafer brightness. A higher bubbling flow rate is required to ensure etching removal and brightness within specification. Besides studying these three responses, the wafer surface after etching is analyzed using ADE Infotool software which captures the etched surface profile and its thickness. Finally, the removal uniformity throughout the redesigned etching drum is observed. Etching performance is enhanced with the...

Поделиться ссылкой на книгу




Об авторе

Musa R.


Последние поступления в рубрике "Другие общетехнические дисциплины"



Свойства электролитов Свойства электролитов Максимова И.В., Федотов Н.Н., Устинов Ю.А., Сергеев С., Разуваев В.В., Правдин Н.В., Пак Ч.-У., Балдынова Ф.

В справочнике содержатся сведения об основных физико-химических свойствах (электропроводности, плотности, вязкости) бинарных и многокомпонентных водных систем электролитов (щелочей, галогенидов, сульфатов щелочных и других металлов, кислот, хроматов, молибдатов, вольфраматов, алюминатов), т.е....

Управление станками и станочными комплексами Управление станками и станочными комплексами Схиртладзе А.Г., Бочкарев П., Мартынов В.Е., Бржозовский Б.

Учебник посвящен управлению станками и станочными комплексами. Представлены основные понятия и общие принципы построения систем автоматического управления, рассмотрены задачи управления и их отражение в архитектуре современных систем управления станками и станочными комплексами....

Станочные гидравлические системы Станочные гидравлические системы Шиляев С., Музафаров Р.

Рассмотрены основные понятия и определения, управление, ремонт и эксплуатация гидрооборудования металлорежущих станков и промышленного оборудования. Учебное пособие предназначено для студентов высших учебных заведений, обучающихся по направлению \\\"Конструкторско-технологическое обеспечение машиностроительных производств\\\"....

Если Вы задавались вопросами "где найти книгу в интернете?", "где купить книгу?" и "в каком книжном интернет-магазине нужная книга стоит дешевле?", то наш сайт именно для Вас. На сайте книжной поисковой системы Книгопоиск Вы можете узнать наличие книги Musa R., Etching performance of silicon wafers with redesigned etching drum в интернет-магазинах. Также Вы можете перейти на страницу понравившегося интернет-магазина и купить книгу на сайте магазина. Учтите, что стоимость товара и его наличие в нашей поисковой системе и на сайте интернет-магазина книг может отличаться, в виду задержки обновления информации.